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真空蒸发镀膜常用的两种镀膜方法

常用的两种镀膜方法 1，真空蒸发镀膜，就是把材料用一些特定方式液化后，蒸发结晶于镜片表面的方式。离子辅助镀膜是指蒸发过程中，微粒离子化，增加均匀性和附着力和氧化程度的方法。 2，溅射式镀膜，是利用高电压电离某些气体，使之碰撞靶材增加能量，靶材能量到达一定程度喷射出来的镀膜方式。离子溅射镀膜是指在溅射能量来源为离子，并且微粒飞翔过程中有明显离子状态，并使用磁场控制其飞翔轨迹的镀膜方式。

磁控镀膜机的溅射方式有哪些

磁控镀膜机的溅射方式有哪些 下面小编就来给大家讲讲磁控镀膜设备的溅射方式。 主要的磁控溅射镀膜设备可以根据其特征分为以下四种：(1)直流溅射;(2)射频溅射;(3)磁控溅射;(4)反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积. 现在的直流溅射(也叫二级溅射)较少用到,原因是溅射气压较高,电压较高,溅射速率小,膜层不稳定等缺点. 直流溅射发展后期,人们在其表面加上磁场,磁场束缚住自由电子后,以上缺点均有所改善,也是现阶段广泛应用的一种溅射方法. 而后又有中频溅射,提高了阴极发电速率,不易造成放电、靶材等现象. 而射频溅射是很高频率下对靶材的溅射,不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料.沉积的膜层致密,附着力良好.

真空镀膜设备的处理方法

空镀膜设备厂家分析真空镀膜设备的处理方法 加工真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要。基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理，达到工件去油、去污和脱水的目的。 基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。真空镀膜厂家这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。 对经过清洗处理的清洁表面，不能在大气环境中存放，要用封闭容器或保洁柜贮存，以减小灰尘的沾污。用刚氧化的铝容器贮存玻璃衬底，可使碳氢化合物蒸气的吸附减至较小。因为这些容器优先吸附碳氢化合物。对于高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面，一般应贮存在真空干燥箱中。

实验室中使用小型镀膜设备

实验室中使用小型镀膜设备 我们在实验室中使用的基本上都是小型的镀膜设备，下面我们就来了解一下这种设备。 用作真空蒸发镀的装置称为蒸发镀膜机。蒸发镀膜机主要由真空室、排气系统、蒸发系统和电气设备四部分组成。真空室是放置镀件、进行镀膜的场所，直径一般为400~700mm，高400~800mm，用不锈钢或碳钢制作，有水冷却装置。 真空中制备膜层可防止膜料和镀件表面的污染，消除空间碰撞，提高镀层的致密性和可制备单一化合物的特殊功能的镀层。 为了提高镀层厚度的均匀性，真空室内的镀件夹具有行星机构或自转加公转的运动装置，如用行星运动方式，这种运动方式成膜均匀性好，台阶覆盖性能良好，镀件装载量大，可以充分利用真空镀膜室的有效空间，是目前经常采用的运动方式。 排气系统一般由机械泵、扩散泵、管道和阀门组成。为了提高抽气速率，可在机械泵和扩散泵之间加机械增压泵。因此，排气系统既要求在较短的时间内获得低气压以保证快速的工作循环，也要求确保在蒸气镀膜时迅速排除从蒸发源和工作物表面所产生的气体。