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光学真空镀膜机镀膜技术和装备

光学真空镀膜机给人感觉，遥不可及，但是现如今光学镀膜机在市场上使用非常广泛了，也得到了很多厂商的认可和喜爱。今天至成小编为大家讲解一下关于光学镀膜相关的知识。光学薄膜是现代光学和光电系统重要的组成部分，在光通信、光学显示、激光加工、激光核聚变等高科技及产业领域已经成为核心元器件，其技术突破常常成为现代光学及光电系统加速发展的主因。光学薄膜的技术性能和可靠性，直接影响到应用系统的性能、可靠性及成本。随着行业的不断发展，精密光学系统对光学薄膜的光谱控制能力和精度要求越来越高，而消费电子对光学薄膜器件的需求更强调超大的量产规模和普通大众的易用和舒适性。

多弧离子真空镀膜机发展历程及特点

20世纪70年代以来，随着工业技术的不断发展，对材料的综合性能要求不断提高，单一材料性能已经不能满足某些特征环境下工作机械的性能要求。离子真空镀膜机镀膜技术通过物理作用，使基体表面沉积出薄膜，在美观的同时又有效提高镀件的物理化学性能，从而提高产品的使用寿命。离子镀技术是当今使用面***广、***的表面处理技术之一。据统计，国内外已有近一半以上表面处理使用多弧离子镀技术，特别适用于对耐磨性、耐腐蚀性有特殊要求的场合。80年代后期，国内外相继开发了离化效率更高的电弧放电真空离子镀、多弧真空离子镀等，使离子镀技术进入了一个新阶段.

近年来，离子真空镀膜机的自动化程度得到了较快发展，国外的设备采用智能一体化控制系统，可精准计算和控制镀膜过程中的基体温度、气体流量和靶电流等关键性参数。国内真空离子镀膜机的自动化程度也有了一定的发展，但在镀膜产品稳定性和精准性方面尚需提升，设备依赖进口。同时多弧离子镀膜机低端产品市场存在供大于求的情况，价格竞争较为激烈。

多弧溅射在靶材上施小电压大电流的作用

多弧溅射在靶材上施小电压大电流使材料离子化（带正电颗粒），从而高速击向基片(负电)并沉积，形成致密膜坚硬膜。主要用于耐磨耐蚀膜。中频溅射的原理跟一般的直流溅射是相同的,不同的是直流溅射把筒体当阳极,而中频溅射是成对的,筒体是否参加必须视整体设计而定,与整个系统溅射过程中,阳极阴极的安排有关,参与的比率周期有很多方法,不同的方法可得到不相同的溅射产额,得到不相同的离子密度中频溅射主要技术在于电源的设计与应用,目前较成熟的是正弦波与脉冲方波二种方式输出,各有其优缺点,首先应考虑膜层种类,分析哪种电源输出方式适合哪种膜层,可以用电源特性来得到想要的膜层效果.中频溅射也是磁控溅射的一种,一般真空镀膜机磁控溅射靶的设计,磁场的设计是各家技术的***,国际几个有名的溅射靶制造商,对靶磁场的设计相当***,改变磁场设计能得到不相同的等离子体蒸发量.电子的路径,等离子体的分布.关于阴极弧（也就是离子镀），磁控溅射，以及坩埚蒸发都属于PVD（物***相沉积），坩埚蒸发主要是相变，蒸发靶材只有几个电子伏特的能量。