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云浮真空离子镀膜设备欢迎来电

发布时间:2019-12-22 04:49:02        









真空镀膜机镀膜的塑料材料如何挑选


真空镀膜机技术的不断发展,使很多原来不能镀膜的材料也得以实现镀膜,但仍有一部分材料并未研发出解决方案,但我非常期待,因为科技是无穷的,很多以前不敢想象的技术,现在都实现了,将来必须会出现新的一页。

对于真空镀膜机的技术,塑料也是可以镀膜的了,这是一种技术性的发展,但不是所有的塑料都可以用真空镀膜机进行镀膜的,因为塑料本身所带有的某些特性是目前的镀膜技术仍未可解决的。

那么什么样的塑料才能用真空镀膜机镀膜呢,归纳起来,可以分三点来挑选。

首先,塑料本身和所镀膜层之间要有一定的亲和力,只有膜层与工件紧密的结合在一起,才能不易脱落,寿命长久,有些塑料没办法和腊层很好的结合在一起,研究人员发现在塑料表面先涂上一层便于膜层紧密结合的涂料,这样就解决了附着力的问题,但这种涂料在与膜层能加强结合外,现时也要和塑料加强结合,同时满足这两种条件的涂料也不是说那么容易找到,只有一部分的塑料可以找到相应的涂料,但有部分塑料始终还未找到,而这些塑料就不能用真空镀膜机镀膜了。


其次,塑料本身必定会含有一些挥发性的杂质,随着温度的上涨,会挥发逸出,但作为可以镀膜的工件,所能忍受的挥发物质是有限的,所以在挑选塑料材料作真空镀膜时,要选择放气量少的,这样对于真空镀膜机运作时的真空度影响也可以采取措施使其受到控制,如果大量的话就会控制不到而使真空度下降,影响镀膜质量。

***后就是塑料受热的稳定性,塑料受到广泛使用就是因为其可以在加温的状态下按照设计者的意愿塑造出想要的形象,这就是受热变形,但在真空镀膜机的镀膜时的环境下,必定产生一定的温度,

如果塑料受热不稳定就会变形,即使镀的膜层再好,工件已经变形,又有什么用呢,所以对于塑料材料的镀膜,都会使用产生的热量低于工件熔点的真空镀膜机,但有些塑料熔点实在在低的,目前的技术仍未解决,所以这些塑料都不适合真空镀膜机的镀膜。



真空PVD镀膜涂层工艺冷却如何进行?


1.高阀关闭,真空计关闭,真空室与泵组隔离;

2.当操作人员按下N2vent按钮,预先接好的氮气会通过N2充气阀充入真空室,当真空室内的压力达到压力开关预设的压力时,N2充气阀关闭。

3.真空室内充入了大量N2,真空度很低,更加有利于热传导,所以降温速度比不充冷却N2时快很多,缩短冷却时间,提高生产效率,实际冷却时间可由原来的90分钟缩短为60分钟。

4.由于氦气的热传导率更高,所以充入冷却氦气比氮气降温速度更快,但是成本也更高。

5.国外设备快速冷却程序,通过冷却气体的循环冷却,能缩短冷却时间50%。


为什么要进行压升率测试?

真空环境条件是影响***终涂层质量重要的因素。镀膜前,必须进行压升率测试,以保证真空环境条件满足镀膜标准。

怎样进行压升率测试?

在我们的自动镀膜工艺中,压升率测试是自动进行。当真空室内真空度达到工艺设定的本底真空后,进入压升率测试步骤。

系统会自动关闭高阀,此时真空室与泵组隔离,真空室内压力会升高。在一定时间内(一般1分钟),如果压力不超过设定的报警值,系统会自动进行下一步程序,进入镀膜步骤。如果压力超过设定的报警值,系统会有报警提示,此时,操作人员应按照操作流程,再次进行抽真空和加热烘烤,然后重复进行压升率测试,直至压升率满足镀膜条件。



真空镀膜机磁控溅射主要工艺流程:


1、基片清洗,主要是用蒸汽清洗,随后用乙醇浸泡基片后快速烘干,以去除表面油污;

2、抽真空,真空须控制在2×104Pa以上,以保证薄膜的纯度;

3、加热,为了除去基片表面水分,提高膜与基片的结合力,需要对基片进行加热,温度一般选择在150℃~200℃之间;

4、Ar气分压,一般选择在0.01~1Pa范围内,以满足辉光放电的气压条件;

5、预溅射,预溅射是通过离子轰击以除去靶材表面氧化膜,以免影响薄膜质量;

6、溅射,Ar气电离后形成的正离子在正交的磁场和电场的作用下,高速轰击靶材,使溅射出的靶材粒子到达基片表面沉积成膜;

7、退火,薄膜与基片的热膨胀系数有差异,结合力小,退火时薄膜与基片原子相互扩散可以有效提高粘着力。

真空镀膜机磁控溅射镀膜的特点:薄膜纯度高,致密,厚度均匀可控制,工艺重复性比较好,附着力强。

依据溅射源的不同,真空镀膜机磁控溅射有直流和射频之分,两者的主要区别在于气体放电方式不同,真空镀膜机射频磁控溅射利用的是射频放电,陶瓷产品使用的是射频磁控溅射镀。


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