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发布时间:2020-01-20 08:15:58
高真空蒸发镀膜设备有哪些特点
真空蒸发镀膜装置,是在真空室中利用电阻加热,将金属镀料熔融、汽化,让金属分子沉积在基片上,获得光滑的高反射率的金属膜层,达到装饰美化物品表面的目的。真空蒸发镀膜装置,是在真空室中利用电阻加热,将金属镀料熔融、汽化,让金属分子沉积在基片上,获得光滑的高反射率的金属膜层,达到装饰美化物品表面的目的。
高真空蒸发镀膜设备具有结构合理、抽速大、工作周期短、生产效率高、操作方便,能耗低、工作稳定,且膜层均匀、成膜质量好等优点。该设备主要广泛应用于汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、手机、反光杯、化妆品、玩具等行业。
可加工的材料包括:ABS、PS、PP、PVC、TPU、PC、尼龙、玻璃、陶瓷、金属等。
可镀基材表面状态:电镀亮面、哑光面(半哑、全哑)、工艺电镀、拉丝、雨滴等;镀制颜色有:金、银、红、蓝、绿、紫、七彩等。可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。
真空镀膜机镀铝时,应该注意哪些事项
用真空镀膜设备镀铝膜,基本工艺流程为:预真空─离子清洗─镀铝─离子轰击─镀保护膜─放气。预真空对镀膜室抽真空至5×10,2Pa时,充入Ar气430mL,利用2个适当的电极间的低压辉光放电产生的离子轰击达到清洗和辅助预热镀膜基底的作用,轰击时间为150s;镀铝部分蒸发器快速升至高温,铝丝从预热、熔化、蒸发镀铝到镀铝完成的时间为30s多;采用二次离子轰击,去除膜表面粒状颗粒,使膜层更加致密,轰击时间为80s;镀保护膜时间为(200amp;plu***n;50)s,真空度为3amp;times;10?2Pa,由充入的硅油流量加少量Ar气来控制真空度,硅油流量由调节阀控制,直至放气结束。
真空镀膜机蒸发系统介绍
真空镀膜机蒸发系统主要指成膜装置部分,镀膜机器的成膜装置很多,有电阻加热、电子枪蒸发、磁控溅射、射频溅射、离子镀等多种方式,鄙人就电阻加热和电子枪蒸发两种方式作介绍,因为此两种方式我应用的比较多。
电阻蒸发根据其结构和工作原理是目前为止应用多,广泛的蒸发方式,也是应用时间长的蒸发方式。它的工作方式是,将钨片做成船状,然后安装在两个电极中间,在钨舟***加上***,再缓缓给电极通电,电流通过钨舟,钨舟通电发热,这些低电压,大电流使高熔点的钨舟产生热量,再热传导给镀膜材料,当钨舟的热量高于镀膜材料熔点的时候,材料就升华或者蒸发了,此方法由于操作方便,结构简单,成本低廉,故被很多设备应用,但是其蒸发出来的薄膜由于致密性不佳,加上很多材料无法采用这种方式蒸镀,所以其有一定局限性。钨舟蒸发镀膜材料的时候,材料的熔点必须小于钨舟的熔点,否则就没有办法进行。
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