真空镀膜设备价格合理 至成镀膜设备制造厂家

磁控溅射镀膜设备镀膜优势

磁控溅射镀膜机有很多种类型，有中频的，也有直流的。在生活中应用也是非常的广泛，如：手提电脑、手机壳、电话、无线通讯、试听电子、***工具、表壳、手机壳、五金等。它的优势也是非常的凸显.

磁控溅射镀膜设备配置了等离子体处理装置，***磁控溅射阴极和电阻蒸发装置等，设备沉积速率快，镀层附着力好，镀层细腻致密，表面光洁度高，且均匀性一致性良好;该机实现镀膜工艺全自动化控制，装载量大，工作可靠，合格率高，生产成本低，绿色环保。该设备主要广泛应用于电脑壳、手机壳、家用电器等行业，可镀制金属膜、合金膜、复合膜层、透明(半透明)膜、不导电膜、EMI电磁屏蔽膜等。

磁控溅射镀膜机将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一真空镀膜设备里，既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子贱出并部分离化沉积在基材成膜，同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其气化再沉积在基材上成膜，增加了设备的用途和灵活性。该设备应用于手机壳等塑料表面金属化，应用于不导电膜和电磁屏蔽膜沉积。

真空PVD镀膜机涂层在中有哪些应用?

PVD涂层可提供更好的边缘保持力，因此涂层***器械仍保持清晰。对于其他设备，它们可以减少配套不锈钢部件之间的磨损，并有助于防止氧化和腐蚀。通常是四种PVD涂层。的是氮化钛（TiN），其厚度范围为0.0001至0.0002英寸，维氏硬度范围为2,400至2,600Hv，以及金色。第二种常见的***涂层是铝钛氮化物（AlTiN），通常称为黑色氮化物或黑色钛涂层。它的厚度范围为0.0001至0.0002英寸，硬度范围为4,000至4,200Hv，炭黑色表面。另外两种***涂料是氮化铬（CrN）和Alpha。CrN的厚度范围为0.0001至0.0005英寸，硬度范围为2,200至2,400Hv，银色表面处理。Alpha是一种多层涂层，其顶层具有氮化锆（ZrN）并产生银-金色。它的厚度范围为0.0001至0.0002英寸，硬度，范围为4,400至4,600Hv。由于其更高的硬度，润滑性和耐磨性，这种涂层可以比TiN长两到四倍。

中频磁控溅射镀膜设备有哪些特点

中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜。中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜的特点是克服了阳极消失现象；减弱或消除靶的异常弧光放电。因此，提高了溅射过程的工艺稳定性，同时，提高了介质膜的沉积速率数倍。

新研发平面靶，圆柱靶，孪生靶，对靶等多种形式的中频溅射靶结构和布局。该类设备广泛应用于表壳、表带、手机壳、高尔夫球具、五金、餐具等镀TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各种装饰镀层。