至成镀膜机生产厂家-中频离子镀膜机厂家-义乌离子镀膜机

真空PVD镀膜涂层工艺冷却如何进行？

1.高阀关闭，真空计关闭，真空室与泵组隔离；

2.当操作人员按下N2vent按钮，预先接好的氮气会通过N2充气阀充入真空室，当真空室内的压力达到压力开关预设的压力时，N2充气阀关闭。

3.真空室内充入了大量N2，真空度很低，更加有利于热传导，所以降温速度比不充冷却N2时快很多，缩短冷却时间，提高生产效率，实际冷却时间可由原来的90分钟缩短为60分钟。

4.由于氦气的热传导率更高，所以充入冷却氦气比氮气降温速度更快，但是成本也更高。

5.国外设备快速冷却程序，通过冷却气体的循环冷却，能缩短冷却时间50%。

为什么要进行压升率测试？

真空环境条件是影响***终涂层质量重要的因素。镀膜前，必须进行压升率测试，以保证真空环境条件满足镀膜标准。

怎样进行压升率测试？

在我们的自动镀膜工艺中，压升率测试是自动进行。当真空室内真空度达到工艺设定的本底真空后，进入压升率测试步骤。

系统会自动关闭高阀，此时真空室与泵组隔离，真空室内压力会升高。在一定时间内（一般1分钟），如果压力不超过设定的报警值，系统会自动进行下一步程序，进入镀膜步骤。如果压力超过设定的报警值，系统会有报警提示，此时，操作人员应按照操作流程，再次进行抽真空和加热烘烤，然后重复进行压升率测试，直至压升率满足镀膜条件。

光学真空镀膜设备该如何进行***

光学真空镀膜设备主要由真空镀膜机室、真空抽气机组限及电柜（控制电柜、电子枪电枢）组成，其广泛应用于微电子、光学成膜、民用装饰、表面工程等领域。光学真空镀膜设备在防止油污染和缩短工作周期等方面具有***的性能。

光学真空镀膜设备工作原理是在高真空状态下、利用电子束对金属或非金属材料加热到适当的温度，材料受热后蒸发成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸发源至被蒸发基片距离大，蒸发出来的蒸汽分子向四处直射，碰到基片就沉积在基片表面形成腊层。

***磁控溅射真空镀膜机设备用途：

***磁控溅射真空镀膜机设备用途：主要用于太阳能电池钙钛矿、OLED和PLED、半导体制备等实验研究与应用。磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。***磁控溅射生产但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击Ar气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴极按照磁场位形分布不同，大致可分为平衡态和非平衡磁控阴极。***磁控溅射生产平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等，两极磁力线闭合于靶面，很好地将电子/等离子体约束在靶面附近，增加碰撞几率，提高了离化效率，因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电。