佛山真空磁控溅射镀膜机来电咨询

真空镀膜机为塑料件镀膜时抽真空时间长的原因

真空镀膜机是在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝熔融汽化，汽化了的金属分子沉积于基片上，而获得光滑反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。获得价廉物美的塑料件表面装饰的理想设备，任意底色的塑料经车灯镀膜机后皆可镀成金属薄膜、七彩膜、仿金膜等，具有提高产品档次、外观更显华贵作用。广泛应用于塑料（ABS、APS、PU、PS、PP、PVC、PC）、尼龙、陶瓷、树脂、玻璃等材料的玩具、饰物、工艺品、手机壳、电子产品、灯饰配件、化妆包装等行业。

真空镀膜机镀塑料时抽真空时间过长主要原因就是塑料产品的放气量太大或真空室有漏气现象：

1、真空室有漏气现象：大家都知道，多弧离子镀膜机是的基本条件是工件在真空状态下才能进行镀膜加工的，若真空室有漏气现象而没有经过检漏找出漏气位置，则真空镀很长时间都不能抽得上来的；

2、即使真空室没有漏气，因为塑料产品的放气量大，所以抽真空，溅控溅射镀膜机特别是高真空很难达到。而且由于塑料产品的放气，造成真空室内镀膜气体的不纯，有杂气的存在，造成镀膜产品的颜色发暗，发黄，发黑等。

真空镀膜机溅镀的原理

以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子炮击资料外表，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子能够直流辉光放电(glowdischarge)发生，在10-1—10Pa真空度，在两极间加高压发生放电，正离子会炮击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。

正常辉光放电(glowdischarge)的电流密度与阴极物质与形状、气体品种压力等有关。溅镀时应尽也许保持其安稳。任何资料皆可溅射镀膜，即便高熔点资料也简单溅镀，但对非导体靶材须以射频(RF)或脉冲(pulse)溅射;且因导电性较差，溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2，非金属lt;5W/cm2

二极溅镀射：靶材为阴极，被镀工件及工件架为阳极，气体(Ar气Ar)压力约几Pa或更高方可得较高镀率。

磁控溅射：在阴极靶外表构成一正交电磁场，在此区电子密度高，进而进步离子密度，使得溅镀率进步(一个数量级)，溅射速度可达0.1—1um/min膜层附着力较蒸镀佳，是现在***有用的镀膜技能之一。

磁控溅射镀膜生产线系统设计系统设计的特点

1、生产线采用PLC全过程控制，并配有彩色显示屏，显示镀膜工艺过程参数等；

2、实时动画形式显示监控磁控镀膜生产线的工艺流程。磁控镀膜生产线的设备是密封的，生产时看不见玻璃在真空室里面的运行情况，通过通用组态式监控系统形象的动画功能来实时反应玻璃在密封真空室里的运行情况，让现场操作工对整个生产流程了若指掌。

3、系统功能丰富：包括手/自动模式选择、工艺方案选择、数据检测记录、故障报警记录、自动诊断保护、操作权限限定等等。系统组成结构图上位监控系统采用的是通用组态式监控系统，其与下位控制系统的三菱FX2NPLC通信方式采用RS-232串行通讯方式。LG变频器及真空泵、抽气阀等都是由三菱FX2N-PLC来控制，而PLC通过一个扩展的232BD模块与计算机相连。软件系统完成的主要功能

1、以实时动画形式监控磁控镀膜生产线的工艺流程，监控电机、真空泵、抽气阀等部件的运行状态；

2、记录设备运行过程中产生的实时报警信息；

3、PLC输入、输出点实时监控。总结该系统现场运行情况良好，数据读写速率快，报警功能、设备动作控制等各项功能均达到设计要求，且快速、准确无误，主画面上的动画过程与现场的生产流程配合较好，使用该系统可以非常方便的监控整条生产线的运行。“操作简单，画面精美，软件与设备的通讯性能优越，大大提升系统形象”通用组态式监控系统软件突出性能给予的评价。