镀金真空电镀设备厂家-至成真空科技-镀膜设备

溅镀机设备与工艺（磁控溅镀）

溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射枪（sputtergun）磁控溅射枪分为平面型和圆柱型，其中平面型分为矩型和圆型，靶材料利用率30-40%，圆柱型靶材料利用率gt;50%溅射电源分为：直流（DC）、射频（RF）、脉冲（pulse），直流：800-1000V（Max）导体用，须可灾弧。

射频：13.56MHZ，非导体用。脉冲：泛用，新发展出溅镀时须控制参数有溅射电流，电压或功率，以及溅镀压力（5×10-1—1.0Pa），若各参数皆稳定，膜厚可以镀膜时间估计出来。

靶材的选择与处理十分重要，纯度要佳，质地均匀，没有气泡、缺陷，表面应平整光洁。对于直接冷却靶，须注意其在溅射后靶材变薄，有可能破损特别是非金属靶。一般靶材***薄处不可小于原靶厚之一半或5mm。

磁控溅镀操作方式和一般蒸镀相似，先将真空抽至1×10-2Pa，再通入Ar气（Ar）离子轰击靶材，在5×10-1—1.0Pa的压力下进行溅镀其间须注意电流、电压及压力。开始时溅镀若有打火，可缓慢调升电压，待稳定放电后再关shutter.在这个过程中，离子化的惰性气体（Ar）清洗和暴露该塑胶基材表面上数个毛细微空，并通过该电子与自塑胶基材表面被清洁而产生一自由基，并维持真空状态下施以溅镀形成表面缔结构，使表面缔结构与自由基产生填补和高附着性的化学性和物理性的结合状态，以在表面外稳固地形成薄膜.其中，薄膜是先通过把表面造物大致地填满该塑胶毛细微孔后并作链接而形成．

真空镀膜机冷却系统的原理及监控方法

真空镀膜设备的金属罩体通过安装孔然后以焊接的方式固定在真空镀膜机的外壁上，待冷却的外壁通过加强圆槽形成渠道，这样确保了冷却的流通，也避免的死角现象的产生，有效的对镀膜机进行了快速的降温，降低了油泵的温度，加强了冷却的强度，结构简单，安全可靠等有点，在真空镀膜机冷却外壳上包括金属罩体的原因是数个排列有序，并且内凹的加强圆槽，所述加强圆槽呈半球形或圆锥台形；在所述加强圆槽底部设有用连接现有真空镀膜机的待冷却外壁的安装孔，所述金属罩体通过安装孔并以焊接方式固定在现有真空镀膜机的待冷却外壁上，在所述金属罩体与待冷却外壁之间通过加强圆槽构成循环通道，根据权利要求1所述的真空镀膜机循环冷却系统用冷却外壳，其特征在于，在所述金属罩体上相邻两所述加强圆槽的纵横间距为100-300mm,上述加强圆槽槽深为12_15mm,所述金属罩体的厚度为2-5_，根据权利要求1所述的真空镀膜机循环冷却系统用冷却外壳，其特征在于，所述加强圆槽的大直径为24-136mm。

真空镀膜机和蒸发真空镀膜机的差异

真空镀膜机是在中间设置真空室，在真空室的左右两侧设置左右大门，而在其中配装蒸发装置和磁控装置，可在该双门上预留该两装置的接口，以备需要时换装。真空镀膜机一般都是由真空系统、蒸发系统、薄膜卷绕系统、冷却系统、控制系统等主要部分组成。

当薄膜运行速度达到一定数值后，打开挡板使气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、冷却即形成一层连续而光亮的金属铝层。

通过控制金属铝的蒸发速度、基材薄膜的移动速度等来控制镀铝层的厚度，一般镀铝层厚度在250～500。而蒸发真空镀膜机是***在塑料表面进行蒸发镀铝、鉻、一氧化硅的专用设备，镀出的膜层牢固且细密，是工业化生产的理想设备，其特点是它的环保性，真空镀膜设备属于无三废、无污染的清洁生产设备，无须环保部门审批。分为立式和卧式。

蒸发真空镀膜设备成膜速率快，膜层牢固，色泽鲜亮，膜层不易受污染，可获得致密性好、纯度高、膜厚均匀的膜层，不产生废液、废水，可避免对环境的污染，是大规模生产的理想设备。离子真空镀膜机是当今世界上用于表面涂装PVD膜层的***专用设备,运用PLC及触摸屏实现自动化逻辑程序控制操作,设备结构合理、外观优雅、性能稳定、操作达到人机对话，简便。