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AF光学镀膜机

该设备是至成镀膜机厂家真空针对数码光电行业视窗镜片及壳料加工推出的新型真空镀膜设备，目标对准行业当前对手机屏幕视窗盖板、镜头视窗镜片、壳体及五金件的真空涂层性能更高要求的解决方案：

性能和产率：提高AF(防指印或称AS防污染)真空膜层的性能，并通过提高设备产率和稳定性、降低材料消耗来大幅降低成本。

适用性：除手机、平板电脑、车载显示器等触控产品外，也适用于在其他数码产品、电器、卫浴等塑胶和金属件的装饰和功能薄膜上加镀AF、AS涂层，提高光滑度、易清洁性。

光学镀膜的作用介绍

光学镀膜由薄膜层组合制作而成，它产生干扰效应来提高光学系统内的透射率或反射性能。光学镀膜的性能取决于层数、个别层的厚度和不同的层接口折射率。用于精密光学的常见镀膜类型：增透膜(AR)、高反射（镜）膜、分光镜膜和过滤光片膜。增透膜包括在高折射率的光学中并用于化光通量和降低鬼影。高反射膜的设计可在单个波长或范围广泛的整个波长以反射。分光镜膜用于将入射光分为已知的透射光和反射光输出。滤光片应用于大量的工业应用中，并以特定波长用于透射、反射、吸收或衰减光。爱特蒙特光学还可以提供各种定制镀膜满足任何应用程序需要。

光学镀膜经过精心设计用于特定的入射光角和特定的偏振光，例如S偏振光、P偏振光或随机偏振光等。如果镀膜设计的入射光角为0°，但使用时的入射光角为45°，则镀膜将不会以规定的透射率/反射规格执行。同样地，镀膜一般设计用于随机偏振光，因此在设计用于随机偏振光的镀膜上使用S偏振光或P偏振光将会再次产生无效的规格。

光学镀膜是由沉积电介质和金属材料制作而成，例如薄层中的Ta2O5和/或Al2O3，在应用中使用的光波长通常是四分之一波长光学厚度(QWOT)或半波光学厚度(HWOT)。这些薄膜由高折射率和低折射率层交替而成，从而诱发需要的干扰效应。请参阅图1有关宽带增透膜设计的样品说明。

冷成型模真空镀膜机

高强度材料成形冷成型模真空镀膜机高强度金属成型中存在的高成型压力和产生的摩擦成为工模具和涂层要面对的重要挑战。PVD和CVD涂层展示的韧性、耐磨性和抗磨损性能显著提高工具的生产能力。

HC90Concept，作为一种无需氮化处理的新型高性能物***相沉积（PVD）涂层，对于这些应用领域来讲是非常理想的解决方案。HC22，HC25，HC30或HC62，均结合了氮化处理，对于公差要求高的工具是非常合适的涂层方案。HC02和HC62是非常适合公差要求不高工具的涂层方案。

有色金属材料成型有色金属材料通常比一般钢材有更好的成形性，但其表面更难改变。HCPVD和PACVD涂层工艺的韧性、耐磨性、低摩擦和抗磨损性能够显著加强工具的生产能力，提高零部件的质量。冷锻冷锻是一种将固定大小的金属块组合成等量的复杂形状的成型工艺。此过程中的工模具要经受高强度的压力和高速率，和工件接触的表面必然会产生磨料和粘着磨损。HCPVD和PACVD和HCCVD涂层工艺的韧性、耐磨性和低摩擦性能能够显著提高工模具的使用寿命和产品的质量。