磁控溅射镀膜机-镀膜机-至成真空镀膜设备

真空镀膜机的特点

真空电镀即真空蒸发镀膜﹐其原理是在高度真空条件下(1.3×10-2~1.3×10-1Pa)使金属铝片受热蒸发并附于(塑料)工件表面﹐形成一层金属膜的方法﹒

真空镀膜设备真空电镀机真空电镀的特点:

1、真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um),能够严格生产出啤件表面的形状

2、工作电压不是很高(200V)﹐操作方便﹐但设备较昂贵﹒

3、蒸镀锅瓶容积小﹐电镀件出数少﹐生产效率较低﹒

4、只限于比钨丝熔点低的金属(如铝﹑银﹑铜﹑金等)镀饰﹒

5、对镀件表面质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件表面缺陷﹒

6、真空镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等﹒

多片式比较片装置的设计特点

1)固定筒圆筒形状、大直径、厚壁结构的设计和周向对称的固定方式，可保证其有足够的强度和刚度，同时，还可阻止高温溅射磨料对其内部零部件污染，保证拨动盘转动的灵活性。

2)圆形轴承座的设计，保证轴承座安装的密封性和垂直度；增大轴的直径尺寸，加大轴承座中两轴承的安装间距，提高其自身的强度和刚度，保证转动过程中轴1的刚度和拨动盘的旋转灵活性、位置重复的一致性。

3)装载换位机构，通过扩大支承盘的直径，使该机构在平面方向的有效面积增大，可安装直径大(Φ26.5mm)的比较片，有利于光路调整，提高光学薄膜质量；比较片由单片玻璃作为一个比较片单元，比较片采用空间立体叠加安装方式，多片玻璃叠加安装在一个比较片存储筒内，实现一次可放置50~100片比较片，解决镀膜机镀制多层精密光学薄膜，比较片数量少影响镀膜层数和精度的问题。

4)***盘与槽型光藕的配合，通过槽型光藕来感知***盘上三个均分的120°狭缝，控制电机转动停止。轴1旋转***重复的一致性得到保证，带动拨动盘完成准确的拨片动作。

5)转动密封馈入机构引入威尔逊密封机构，既保证电机通过齿轮啮合带动轴的灵活转动，又保证真空室对外部的密封作用。优化设计的真空镀膜机多片式比较片装置，其特点：(1)结构简单，强度高，可靠性好；(2)比较片装载数量大，生产效率提高，可镀制超多层精密光学薄膜；(3)比较片直径增大，提高薄膜监控的精度，降低对硬件系统的要求，系统容易实现自动控制；

真空镀膜的过程中产生的斑点如何处理？

针对喷点、潮斑(花斑)的成因,在生产中采取了以下一些措施以消除喷点、潮斑(花斑):

1、选择可靠的材料供应商,并对购买的每批材料在投入使用前先做一测试,判定材料的可靠性。

2、规范材料的领用、保管,(干燥缸,干燥剂)保证材料不受潮,材料性质无变化。

3、规范镀膜操作,严格执行预熔、蒸镀的操作规程。蒸镀前的材料预熔一定要彻底,镀制某些较厚的膜层时可以采用多次预熔的方法消除喷点。

4、规范清洗操作,加强清洗后的检查,提高清洗质量,消除因清洗而产生的潮斑(花斑)。

5、调整烘烤温度,消除烘烤原因产生的潮斑。

6、规范镀膜夹具的管理。每次投入使用前,夹具需要先经过清洗、烘烤(300度,3小时以上)才能投入生产。

7、设计镀膜夹具时,尽量采用在真空室内放气量小的材料,同时可采取夹具表面镀Ni的方法降低夹具的放气量,消除由此产生的潮斑(花斑)。