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真空镀膜机的工作原理是怎样的?

真空镀膜机的运用非常广泛，涉入到各个行业，也广受大家喜爱，那么它的工作原理是怎样的呢？下面至成真空小编为大家详细的介绍一下，希望能帮到大家：

真空镀膜设备主要指需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括多弧离子真空镀膜设备，真空离子蒸发，光学镀膜机，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。真空镀膜的工作原理是膜体在高温下蒸发落在工件表面结晶。由于空气对蒸发的膜体分子会产生阻力造成碰撞使结晶体变得粗糙无光，所以必须在高真空下才能使结晶体细密光亮，如果真空度不高结晶体就会失去光泽结合力也很差。早期真空镀膜是依靠蒸发体自然散射，结合差工效低光泽差。现在加上中频磁控溅射靶用磁控射靶将膜体的蒸发分子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜，解决了过去自然蒸发无法加工的膜体品种，如镀钛镀锆等等。

引起镀膜玻璃膜层不均匀原因有哪些

由于残余气体的存在，不但影响膜的纯度及质量，还会产生。所以在生产中要选用高纯度的气为工作气体，严格控制真空室的漏气速率，以减小残余气体对原片及膜层的污染。将残余气体的压力控制在10Pa以下，要经常清理加热室、玻璃过渡室、溅射室的环境，减少扩散泵返油对玻璃的污染。同时可适当提高阴极的溅射功率，以增加粒子动能及扩散能力，这将有利于清除被镀膜玻璃表面的残留物质，减少镀膜玻璃的。镀膜玻璃膜的膜层均匀度一般地讲，同一基片上膜层厚薄不同，就称之为膜层不均匀。引起镀膜玻璃膜层不均匀的原因是多方面的。磁控溅射靶的水平磁场强度（B）对膜层均匀度的影响磁控溅射的关键参数之一是与电场垂直的水平磁场强度B，因为水平磁场强度B要求在阴极靶的表面是一个均匀的数值。而实际生产过程中值是随着使用方法及时间的推移，产生一定的变化，而出现不均匀现象。我们从溅射过的阴极靶材的刻蚀区的变化情况就可以验证。

卧式蒸发真空镀膜设备

该设备结构合理、膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作周期短、生产效率高、操作方便、能耗低性能稳定等优点。广泛应用于汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、玩具、手机、反光环、化妆品、玩具等行业。

卧式蒸发真空镀膜设备具有：结构合理、膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作周期短、生产效率高、操作方便、能耗低性能稳定等优点。广泛应用于汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、玩具、手机、反光环、化妆品、玩具等行业。

镀制效果有：普通电镀亮面、哑面（半哑、全哑）、工艺电镀、拉丝、雨滴、七彩等等。

至成镀膜机厂家可以根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。