真空电镀机厂家询问报价

手机纳米膜真空镀膜与电镀的区别

真空镀膜又称真空离子镀，是不采用溶液或电能液而制备薄膜的一种全新的干式镀膜方法。过去物体表面镀制薄膜作为物体表面改性的手段是采用湿式的电镀发或化学镀法。

在电镀法中，被电解的离子镀到作为电解液中另一个电机的被镀件表面上而成膜，因此，其基体必须是良导体，度也难以控制。

(1)水电镀颜色较单调，一般只有亮银和亚银等少数几种，对于闪银、魔幻蓝、裂纹、水滴银等，五花八门的七彩色就无能为力了;而真空电镀可以解决七彩色的问题，可镀金色、红色、蓝色等各种颜色。

(2)真空镀膜的附着力(附着强度)好，膜层十分牢固，不易脱落。

(3)真空镀膜的膜材和基体材料有广泛的选择性，可制备各种不同的功能性涂层。

(4)电镀一般的镀层材质采用“六价铬”，这是非环保材料，无法出口欧美市场，而真空电镀的镀层材质为铝，安全环保，能达到欧美市场的环保监测指标。

镀膜前后的效果有哪些区别

没有做涂层时的问题：(1)镜面很容易乱花，甚至做表面清洁时用柔软的纸巾擦拭也会乱花(2)使用不到半个月镜面就乱花或变雾(3)反复多次拆卸抛光，不仅成本高昂，而且严重影响生产效率，甚至无法正常交货给客人

通过镜面塑胶模具涂层镀膜设备镀膜后：(1)镜面完全没有受损：光亮度没有下降、没有产生小白点或其它花纹等(2)由于涂层后表面硬度的提高，在做模具***时，用纸巾擦拭，甚至手碰到模具，都不用担心表面乱花(3)使用时间提高到半年，甚至1年以上(4)在涂层磨损后，仍然可以褪去涂层，再抛光重镀再使用(5)无论生产效率，还是成本效益，都取得了很好的收益

真空镀膜机技术中的磁控溅射镀膜优势所在镀膜技能商品技能特色

据调查显示，对于沉积速率，真空镀膜机技术中的磁控溅射镀膜运用效果很好。有项研究就是对平衡磁控溅射镀膜和非平衡磁控溅射镀膜进行各种对比。在这两者之前，对其成膜的沉积速率的不同作出了实验研究。

在实验中，通过是平衡磁控溅射的基础上增加附加的线圈来控制磁场的变化，形成非平衡磁控溅射条件，这种附加线圈可以改变磁场电流，调整在整个靶材表面所存在的磁场状况，从而使其产生的离子密度更高，在研究数据中显示，当离子密度提高，成膜的沉积速率也相应提高，通过这种调整电流的方式，可以提高磁控溅射镀膜时的沉积速率。

把靶材与基底之间的距离改变，当距离越大，沉积速率就越低，相反就越高，所以要设定好靶材与基底的距离，距离大了，离子随着磁场所产生的电流沉积到基底上的时间就长了，在此时间内受到真空镀膜设备中的气体散射的影响就多了，离子密度相对降低，距离短就受影响少，离子密度就高，但不是越短越好的，太短距离就相对减少成膜的面积，所以这个距离需要拿捏好，可以提高磁控溅射镀膜时的沉积速率。从上述的表述我们可以知道，磁控溅射镀膜机的技术还是十分有效的

真空镀膜检漏有哪3个过程?

真空镀膜检漏有哪3个过程？ (1)充压过程是将被检件在充有高压示漏气体的容器内存放一定时间，如被检件有漏孔，示漏气体就可以通过漏孔进入被检件的内部，并且将随浸泡时间的增加和充气压力的，被检件内部示漏气体的分压力也必然会逐渐升高。(2)净化过程是采用干燥氮气流或干燥空气流在充压容器外部或在其内部喷吹被检件。如不具备气源时也可使被检件静置，以便去除吸附在被检件外表面上的示漏气体。在净化过程中，因为有一部分气体必然会从被检件内部经漏孔流失，从而导致被检件内部示漏气体的分压力逐渐下降，而且净化时间越长，示漏气体的分压降就越大。(3)检漏过程则是将净化后的被检件放入真空室内，将检漏仪与真空室相连接后进行检漏。抽真空后由于压差作用，示漏气体即可通过漏孔从被检件内部流出，然后再经过真空室进入检漏仪，按检漏仪的输出指示判定漏孔的存在及其漏率的大小。