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真空镀膜机工作原理真空镀膜机的结构与工作原理介绍之真空罐

真空镀膜机首要指一类需求在较高真空度下进行的镀膜，详细包含许多品种，包含真空离子蒸腾，磁控溅射，MBE分子束外延，○○PLD激光溅射堆积等许多种。首要思路是分红蒸腾和溅射两种。

需求镀膜的被成为基片，镀的资料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。

蒸腾镀膜通常是加热靶材使外表组分以原子团或离子办法被蒸腾出来，并且沉降在基片外表，通过成膜进程（散点－岛状构造-迷走构造-层状成长）构成薄膜。关于溅射类镀膜，能够简略理解为运用电子或高能激光炮击靶材，并使外表组分以原子团或离子办法被溅射出来，并且终究堆积在基片外表，阅历成膜进程，终究构成薄膜。

PVD镀膜技术目前主要应用的行业,PVD镀膜技术的应用主要分为两大类：装饰镀膜和工具镀膜。装饰镀的目的主要是为了改善工件的外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀延长其使用寿命;这方面主要应用五金行业的各个领域，如门窗五金、锁具、卫浴五金等行业。工具镀的目的主要是为了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系数，提高工件的使用寿命;这方面主要应用在各种刀剪、车削刀具(如车刀、刨刀、铣刀、钻头等等)、各种五金工具(如螺丝刀、钳子等)、各种模具等产品中。

PVD镀膜膜层的特点,采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。PVD镀膜能够镀出的膜层种类,PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜(TiN、ZrN、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。PVD镀膜膜层的厚度—PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm～1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。