AF光学镀膜设备-无锡镀膜设备-至成镀膜设备制造厂家

真空镀膜机镀膜层厚度范围真空镀膜机能够沉积的镀膜层厚度范围为0.01-0.2，可以在这个范围内选择，有的还可以镀多层膜，满足多种需要。日本专利提出沉积两种不同镀膜材料的卷绕式蒸镀装置。该装置的真空室分为上室，左下室和右下室。蒸镀时，两组蒸发源蒸发的镀膜材料分别沉积在塑料薄膜上，在塑料薄膜没有蒸镀的一侧，装上辉光放电发生器。发生器产生的辉光放电气体能防止塑料薄膜起皱。使用这套装置可以在极薄的塑料薄膜上镀上无折皱的多层膜，用于制磁带和薄膜太阳能电池等。

真空镀膜机镀铝性能与哪些因素有关

真空镀膜机镀铝性能取决于塑件和镀膜层的质量，被人戏称为富人的游戏，说明镀膜质量要求相当高。镀膜质量的关键是底漆层质量。虽有无底涂镀膜，但其模具质量要求和成本高，存在真空镀膜机镀铝反射亮度不足和塑件缺陷等问题，易导致镀铝产品报废率居高不下。一般而言，无底涂的报废率在10%左右，有底涂在20%左右，甚至会更高。为解决这一困惑，国内有厂家经过10多年的努力，采用了炉内喷涂底漆并固化使镀件生成高亮的表面(无污染残留物)，进行高压离子清洗预处理，真空蒸发镀铝和镀保护膜，使产品的合格率在98%以上，每年可节省大量的喷漆、烤漆能耗和人工成本等。

引起镀膜玻璃膜层不均匀原因多方面

二次污染造成的洗净的玻璃在镀膜前需经过加热，抽真空和溅射等过程，而使玻璃再次污染，从而使玻璃镀膜后产生。玻璃加热过程中再污染是加热室或溅射室不干净，而对玻璃再污染，这些污染源主要来源于扩散泵返油、加热室或溅射室内脏、靶玻璃材溅射产生靶灰，残余气体压强高等诸多方面。因为一般的固体物质，每单位表面积上的分子数大约为10个左右，在常Pa的压强下，每秒钟撞表面的分子数大体上相当于覆盖物质积的分子数。在残余气体压强为10的情况下，假如以每秒一层原子左右的形成速度进行镀膜时，则蒸发的原子和残余气体的分子几乎是以相同的几率碰撞基片。在溅射过程中在充入气时压强为10～10时所形成膜的速度和蒸发条件下基本相同。