PVD中频离子镀膜机-至成真空科技-离子镀膜机

为什么真空镀膜设备镀玻璃会掉膜？真空蒸发镀膜设备的零部件的表面清洗处理是很有必要的，因为要是受到外界环境的影响会使真空系统无法正常使用达不到高真空度。而且存在杂质的情况下，真空部件的链接和密闭性都有受到影响。污染物杂质对真空完全是一种无用的物质，多弧离子镀膜机会根据杂质的状态将其分为固态杂质、气态杂质以及液体杂质，它们微粒的形式存在。从化学的角度看，既可以是离子的也可以是共价的，既是有机的也可以是无机的。显露的外面的表层容易被污染到，被污染的情况有很多种，一开始一般是由本身运转形成的。要注意表层吸附、化学作用、清洁和晾干等过程、机械在各种运作过程中都有可能产生污渍使表面污染物增加。

如何采用真空镀膜设备在眼镜片上

现在配眼镜时，需要在眼睛上加膜，采用真空镀膜设备镀膜主要有两个作用：

1、增加镜头透光率；2、防止散光干扰，提高清晰度。

采用真空镀膜设备进行镜片镀膜需要注意以下问题：

1、镜片需要清洗

需要采用各种清洗液进行镜片清洗，清洗度要高。清洗完成之后，放进镀膜设备的真空仓内，过程中不能沾染灰尘。采用离子枪轰击镜片表面，就可以进行镀膜了。

2、膜层的牢固性

膜层的牢固性将影响镜片的质量个磨损度。

3、再镀抗污膜

镜片的表面容易产生污渍，使得镜片模糊不清，我们可以在镜片表面镀上多层发射膜，减少油污或其他污渍。佳的方法就是采用真空镀膜，可以使用蒸发工艺将氟化物镀于反射膜上。

高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入气体和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面，也发生在阳极，真空腔体表面，以及靶源表面。从而引起灭火，靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术，很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极，从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是一切源（磁控，多弧，离子）所必需，因为能量很大一部分转为热量，若无冷却或冷却不足，这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。