多弧离子镀膜设备-至成真空科技-离子镀膜设备

如何减少真空镀膜机中的灰尘1、使用的源材料要符合必要的纯度要求；2、样品取出后放置的环境要注意清洁问题；3、镀膜一段时间后，真空室内壁必须要清洁处理；4、清洗衬底材料，必须要做到严格合乎工艺要求；5、工作人员要有专门的工作服装，操作要戴手套、脚套等；6、适当的增加环境的湿度，有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物；7、技术上明确允许的大颗粒尺寸和单位面积颗粒物的数量的上限大致是多少；8、室内空气流动性低、地面干净，如果是的水泥地，需要覆盖处理，墙壁、屋顶不能使用一般的灰质涂料粉刷。

高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入气体和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面，也发生在阳极，真空腔体表面，以及靶源表面。从而引起灭火，靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术，很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极，从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是一切源（磁控，多弧，离子）所必需，因为能量很大一部分转为热量，若无冷却或冷却不足，这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。

性能高的节能玻璃需要通过真空磁控溅射工艺在玻璃表面依次镀上厚度为纳米级的10多层金属和非金属薄膜，使玻璃对光谱具有选择性透过功能，能透过大部分可见光，不影响采光，又能阻挡红外、远红外、紫外光，阻断热辐射，生产技术极为复杂。大面积真空镀膜技术和以此为基础的镀膜设备制造业长期被国外公司垄断，单条生产线的技术引进和设备进口费用高达1.5亿元。采用这一工艺生产的产品不仅克服了目前低辐射镀膜玻璃普遍存在的膜层易脱落、易氧化、不能热加工等不足，而且具有可钢化，镀层暴露在大气中3个月以上不氧化、可异地加工等优异性能。