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多弧磁控溅射多功能离子镀膜设备

多弧磁控溅射多功能离子镀膜备可在金属或非金属的表面镀制硬质增寿腊、装饰腊、合金膜或多层腊，可广泛用于刀刃、模具、钟表、首饰、灯具、建筑五金及装饰用彩色钢板、眼镜架、电子产品、器械、仪器仪表等领域。

多弧磁控溅射多功能离子镀膜设备在真空条件下采用物***相沉积技术，在基片上镀制氮化钛及其它薄膜。它将多弧离子镀技术、柱形靶及磁控油射离子镀技术有机结合在一起，可单独使用或同时使用，制取含有连续过渡层的各种膜层。

多弧磁控溅射多功能离子镀膜设备制造简单，使用方便，运行成本低无污染，经济效益高。其双真空室可交替工作，能提高工效一倍，大大节省***。

光学镀膜技术在过去几十年实现了飞快的发展，从舟蒸发、电子束热蒸发及其离子束辅助沉积技术发展到离子束溅射和磁控溅射技术。近年来在这些沉积技术和装备领域的主要技术有以下三点：

一、渐变折射率结构薄膜技术与装备：

渐变折射率结构薄膜技术与装备:已经有大量研究工作已经证实Rugate***面型薄膜结构和准Rugate多种折射率薄膜结构通过加强调制折射率在薄膜厚度方向上分布，能设计出非常复杂的光谱性能，(部分)消除

了薄膜界面特征，(部分)消除界面效应，如电磁波在界面上比薄膜内部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力学稳定性。

二、磁控溅射光学镀膜系统

以LeyboldHelios和ShincronRAS为代表，磁控溅射技术及装备在精密光学领域和消费光电子薄膜领域占据越来越大的份额。磁控溅射薄膜沉积过程控制简单，粒子能量高，获得的薄膜结构致密稳定。

三、间歇式直接光控：

间歇式直接光控：以LeyboldOptics公司的OMS5000系统为代表，光学镀膜过程中越来越多地使用间歇式信号采集系统，对镀膜过程产品片实现直接监控。相对于间接光控和晶控系统，间歇式直接光控系统有利于降低实际产品上的薄膜厚度分布误差，可以进一步提高产品良率并减少了工艺调试时间。

真空PVD镀膜涂层工艺有那些步骤呢?

今天至成真空小编为大家详细介绍一下真空PVD镀膜涂层工艺操作步骤，它的先后顺序是怎样的，有那些细节和原理是必须要了解的。

首先在处理工艺前，需要褪膜、喷砂、抛光、钝化、清洗、装夹。镀膜工艺，抽真空、加热烘烤、漏率测试、轰击清洗、镀膜、冷却出炉。后处理工艺：首先清洗环节，确保真空镀膜机镀膜前产品表面的清洁，越新鲜的表面，越能保证镀膜质量；然后再抽真空将真空室内的残余气体抽走。接下来加热烘烤，炉体和工件同时加热，加速残余气体的释放。压升率测试，测试炉体的漏气率和放气率。轰击清洗，去除工件表面的杂志，露出新鲜表面。镀膜，沉积膜层。冷却，避免工件氧化变色。为什么要进行冷却，镀膜工艺完成后，真空室内温度高达500℃，如果不冷却就放气，没有被镀上膜的高温工件表面会因为与空气反应氧化变成蓝色。