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真空镀膜机离子镀是什么?

很多人听说过离子真空镀膜机，但是对于真空镀膜机离子镀了解甚少，离子镀是一种镀膜工艺中的一种，下面为大家详细介绍一下：首先给大家它定义：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。

它的原理是：蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于真空罩内充有惰性Ar气，在放电电场作用下部分Ar气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的Ar离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并被电离。带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同Ar离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。

它能分为四类：①磁控溅射离子镀。②反应离子镀。③空心阴极放电离子镀。④多弧离子镀。

它的特点：镀层附着性能好，对离子镀后的试件作拉伸试验表明，一直拉到快要断裂时，镀层仍随基体金属一起塑性延伸，无起皮或剥落现象发生；绕镀能力强，因此这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽和窄缝，等其他方法难镀的部位；镀层质量好，离子真空镀膜机镀膜的镀层***致密、无孔、无气泡、厚度均匀；清洗过程简化。

真空镀膜机分类

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅镀膜机射、MBE分子束外延镀膜机和PLD激光溅射沉积镀膜机等很多种。主要是分成蒸发和溅射两种。在真空镀膜设备中需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。真空镀膜机对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。

根据工艺要求选择不同规格及类型镀膜设备，其类型有电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、离子镀真空镀膜设备、磁控反应溅射真空镀膜设备、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。夹具运转形式有自转、公转及公转 自转方式，用户可根据片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。

PACVD硬质涂层真空镀膜机系统的特点：

（1）2个等离子激发源（射频，直/直流脉冲）（2）安装在两边的2闭合场非平衡磁控管溅射（3）带有一个前门的六角形真空室，保证一个洁净的环境（4）干式真空系统设计安装在一个单独的空间，处理高吞吐量的碳氢化合物和其他工艺气体（5）基材和导电与非导电涂层及组合原位清洗的离子激发系统（6）可选择的等离子体激发模式和频率使等离子的密度和能量适应基材增压特性，以小压强进行电离作用（8）单独的PACVD工艺中不强制转动的时候，一种行星式转动也能够使溅射涂层统一沉积（9）特别是在PACVD过程特殊设计的进气系统能够优化涂层的均匀性和清洁度（10）泵的选择编排和上下的蒸汽压力调节，保证了涂层系统的高可靠性（11）iFIX基础的控制系统，易于批次、配方和报警处理（12）所有数据的采集，保证良好的过程控制。工艺过程中定制曲线图做到良好检查方案。在批次运行过程中，操作者也可更改或新建工艺（13）用户可自行设置进入控制系统的权限，以保证系统的质量和安全性