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真空抽气系统的结构与工作原理

高真空卷绕镀膜机的真空抽气系统由卷绕室抽气机组和镀膜室抽气机组组成。

卷绕室抽气机组由1台油增压泵、2台罗茨泵、1台滑阀泵和1台旋片泵组成，油增压泵作为主泵，以保证在达到10-1Pa的工作压力下有较大的抽气速率；

镀膜室抽气机组由1台油扩散泵、1台罗茨泵、1台滑阀泵和1台旋片泵组成，油扩散泵作为主泵，以保证铝丝蒸发所需的10-2Pa真空状态。

真空抽气系统由可编程PLC集中控制，在液晶触摸屏上进行操作，分为自动控制和手动控制两种模式。正常操作使用自动模式，PLC将根据在真空计中设定的各级真空值对各台真空泵的启动或停止、阀门的开启或关闭等功能实现自动控制。手动控制模式主要供调试和检修时使用，可以实现单独开闭各泵和阀门的操作。

真空管道上的阀门均为气动控制阀，并采用电磁换向阀控制其开启或关闭，阀门上的气缸配有位置信号开关，方便控制系统对阀门的状态实施监控。

在罗茨泵与滑阀泵的连接管道上装有气动充气阀，可供滑阀泵停止时向泵腔内充入大气之用，其开、闭动作与滑阀泵联动，由可编程PLC控制其滞后或提前的时间。

镀膜室抽气方阀上装有气动放气阀，供卷绕结束时卷绕车退出前向真空室内充入大气之用，其开启动作和时间长短由可编程PLC控制。

各个真空管道上装有真空测量规管座以提供可编程PLC和真空计所需的真空压力信号，同时为维修、检测真空系统各管道的压力提供方便。

详解手机行业的PVD镀膜技术

详解手机行业的PVD镀膜技术 PVD是英文PhysicalVaporDeition的缩写，中文意思是“物***相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。 PVD(物***相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。对应于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是快的，它已经成为当今***的表面处理方式之一。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜;通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。 PVD镀膜(离子镀膜)技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

真空镀膜设备离子镀膜上的创新方法

真空镀膜设备离子镀膜上的创新方法 真空镀膜设备多弧离子镀膜上的创新方法，所谓多弧离子镀膜就是置待镀材料和被镀基板于室内，真空镀膜机多弧离子镀膜采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。 多弧离子镀膜的方法，在条件下成膜有很多优点，可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。