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多功能真空镀膜机是怎么构成的？

多功能真空镀膜机是磁控溅射、多弧离子、蒸发镀膜的混合性设备，是在多弧离子镀膜机的基础上装备圆柱靶或平面磁控靶，设备具有离子镀的高离化率、高堆积速度的特色，一起也具有磁控溅射低温、安稳的长处，合适镀各种复合膜。

多功能真空镀膜机--磁控、中频、多弧离子镀膜具体介绍：

①蒸腾与磁控溅射的混合设备:多功能，合适量产，适应性强。

②磁控溅射与多弧离子镀的混合运用:多弧能够进步炮击清洗质量，添加薄膜与基材结合力。与磁控溅射一起作业可镀制复合膜（高能离子源清洗活化，成膜速度快）。

③多对中频磁控溅射靶与柱弧离子镀的混合运用:中频靶更安稳（如Al），离化率高、堆积速率快、成膜均匀。中频反应溅射如镀制Si02、TiO2，一起镀多层不一样原料簿膜。

④射频、直流、中频、柱弧的混合运用：射频能够直接镀制绝缘保护膜如SiO2/Ag/SiO2

⑤圆柱弧、中频、多弧的混合运用:柱弧确保高离化率的一起，削减大颗粒堆积的份额，到达有好的结合力又有较好表面光洁度的作用。多功能真空镀膜机适用中高层次商品如表带、表壳、眼镜框、手机壳、高尔夫球具、卫浴洁具、饰品等。

PVD真空镀膜设备蒸发系统工作方式

PVD真空镀膜设备蒸发系统主要指成膜装置部分，PVD镀膜机的成膜装置很多的，PVD镀膜有电阻加热、射频溅射、离子镀等多种方式。PVD镀膜电阻蒸发根据其结构和工作原理是目前为止应用多的，PVD镀膜广泛的蒸发方式，PVD镀膜也是应用时间长的蒸发方式。

下面介绍PVD镀膜电阻加热和电子枪蒸发的方式：

PVD镀膜将钨片做成船状，然后安装在两个电极中间，再热传导给PVD镀膜材料，当钨舟的热量高于PVD镀膜材料熔点的时候，材料就升华或者蒸发了，PVD镀膜由于操作方便，结构简单，成本低廉。PVD镀膜电子枪蒸发是到目前为止应用多的一种蒸发方式，PVD镀膜可以蒸发任何一种PVD镀膜料。

将镀膜材料放在坩埚里面，PVD镀膜将蒸发源制作成灯丝形状，PVD镀膜由于灯丝的材料是钨，形成了一股电子束，PVD镀膜由于电子束温度非常高，PVD镀膜可以熔化任何镀膜***凝结下来。

至成真空十多年来***从事各种真空镀膜应用设备制造，多年来致力于研发和生产真空镀膜机，以新技术不断制造出满足市场需要的真空电镀设备，为客户提供定制化的工艺解决方案和机器。

电子束蒸发真空镀膜机应用及特点

真空镀膜机已经广泛运用到我们的生活中，以前物件镀上一层一层的膜是为了延长寿命，防止腐蚀。然而随着人民的生活质量不断的提升，对于物件外表的膜层不仅仅只是停留在延长使用寿命上，同时更多关注物件的外观是否绚丽美观。真空镀膜机在日常生活中运用无处不在，使用的行业不一样，镀的产品不一样，镀膜机的型号是不相同的。今天至成真空小编为大家介绍一下电子束蒸发真空镀膜机应用及特点。

首先简单为大家介绍一下蒸发系列卷绕真空镀膜机，它主要用于在塑料、布、纸、金属箔等带状材料表面真空蒸镀金属膜。产品广泛用于包装、印刷、防伪、纺织、电子工业等领域。本系列设备具有运行平稳、收放镀膜平齐、膜层均匀、生产周期短、能耗低、操作维护方便、性能稳定等特点

电子束蒸发真空镀膜机真空镀膜是将固体材料置于真空室内，在真空条件下，将固体材料加热蒸发，蒸发出来的原子或分子能自由地弥布到容器的器壁上。当把一些加工好的基板材料放在其中时，蒸发出来的原子或分子就会吸附在基板上逐渐形成一层薄膜。真空镀膜有两种方法,一是蒸发,一是溅射。在真空中把制作薄膜的材料加热蒸发，使其淀积在适当的表面上。

那么电子束蒸发镀膜机的结构特点有哪些呢？

（1）卷饶系统采用支流或交流变频调速，具有运行平稳、速度高、对原卷材不划伤、不折皱，收卷端面征集等特点；

（2）张力控制采用进口数字张力控制系统，具有张力、线速度恒定，动作快速的特点；

（3）各组送丝由微机电机***控制，可总调或单独调速，并有速度显示；

（4）真空系统配置精良，抽气速度快，采用PLC控制；

（5）配备大功率电源，镀膜，膜层均匀性好。