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真空PVD镀膜涂层工艺有那些步骤呢?

今天至成真空小编为大家详细介绍一下真空PVD镀膜涂层工艺操作步骤，它的先后顺序是怎样的，有那些细节和原理是必须要了解的。

首先在处理工艺前，需要褪膜、喷砂、抛光、钝化、清洗、装夹。镀膜工艺，抽真空、加热烘烤、漏率测试、轰击清洗、镀膜、冷却出炉。后处理工艺：首先清洗环节，确保真空镀膜机镀膜前产品表面的清洁，越新鲜的表面，越能保证镀膜质量；然后再抽真空将真空室内的残余气体抽走。接下来加热烘烤，炉体和工件同时加热，加速残余气体的释放。压升率测试，测试炉体的漏气率和放气率。轰击清洗，去除工件表面的杂志，露出新鲜表面。镀膜，沉积膜层。冷却，避免工件氧化变色。为什么要进行冷却，镀膜工艺完成后，真空室内温度高达500℃，如果不冷却就放气，没有被镀上膜的高温工件表面会因为与空气反应氧化变成蓝色。

真空磁控溅射镀膜机工艺,及人员技能选择

很多人听说过真空磁控溅射镀膜工艺，大概只知道它的做用就是镀膜，但是大家却不知道，它的镀膜原理以及流程，为什么它能镀出精美的膜，包括后期这方面的工作人员该如何选择，或者是规划自己后期的发展，各人认为，只有你对这个行业有详细的了解，这样你才能做出正确的选择。

首先给大家讲解一下真空磁控溅射镀膜机镀膜流程，让大家知道，那些漂亮的膜是怎么镀出来的。一般在在镀膜前，机器都要先抽真空，并且抽真空过程中要加热，加热的温度取决于你工件的材质3。当真空度达到高真空，一般在0.005Pa左右时，开始Ar离子轰击清洗，用电弧靶主弧轰击清洗，接着用用用电弧和磁控靶混合打底和用磁控靶打底，然后通入要镀的物质，***后降温出炉就可以了，整个镀膜的过程就完成了，很多多人，觉的镀膜工艺很繁琐，技术含量很高。其实不然，只要你弄镀膜流程和镀膜过程的应该注意的细节，然后精力投入进去，其实还是非常好上手的。很过刚入门的新人，一腔热血，想要进入镀膜行业，想要学习技术，但是却没有了解他到底想要学习什么技术。是镀膜工艺技术，镀膜设备方面的技术，很多新人对此行业了解不深，把这两者混为一谈，只是这两者是有很大区别的，尤其是刚进入行业的新人，要切记及注意。

光学镀膜技术在过去几十年实现了飞快的发展，从舟蒸发、电子束热蒸发及其离子束辅助沉积技术发展到离子束溅射和磁控溅射技术。近年来在这些沉积技术和装备领域的主要技术有以下三点：

一、渐变折射率结构薄膜技术与装备：

渐变折射率结构薄膜技术与装备:已经有大量研究工作已经证实Rugate***面型薄膜结构和准Rugate多种折射率薄膜结构通过加强调制折射率在薄膜厚度方向上分布，能设计出非常复杂的光谱性能，(部分)消除

了薄膜界面特征，(部分)消除界面效应，如电磁波在界面上比薄膜内部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力学稳定性。

二、磁控溅射光学镀膜系统

以LeyboldHelios和ShincronRAS为代表，磁控溅射技术及装备在精密光学领域和消费光电子薄膜领域占据越来越大的份额。磁控溅射薄膜沉积过程控制简单，粒子能量高，获得的薄膜结构致密稳定。

三、间歇式直接光控：

间歇式直接光控：以LeyboldOptics公司的OMS5000系统为代表，光学镀膜过程中越来越多地使用间歇式信号采集系统，对镀膜过程产品片实现直接监控。相对于间接光控和晶控系统，间歇式直接光控系统有利于降低实际产品上的薄膜厚度分布误差，可以进一步提高产品良率并减少了工艺调试时间。